鍍膜用于學(xué)術(shù)性的語言稱之為薄膜沉積（Thin film depositon）是一種常用的表面處理工藝。被廣泛應(yīng)用于機械加工、半導(dǎo)體、裝飾材料等領(lǐng)域。下面工采網(wǎng)通過本文向大家介紹一下半導(dǎo)體鍍膜工藝中的流量監(jiān)測。
鍍膜是利用化工產(chǎn)品上光性或者樹脂型化工產(chǎn)品在物體表面形成一層薄膜狀態(tài)物質(zhì)、也就是保護(hù)層！鍍膜工藝一般是PVD和CVD。PVD：物理氣相沉積。通過plasm轟擊金屬靶材（金靶，銅靶，Al，Cr.....），金屬原子脫離靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化學(xué)氣相沉積。這個是通過化學(xué)反應(yīng)，在晶圓表面張氧化薄膜。兩種工藝顯示如下：將鍍膜原料（氣體或蒸汽）經(jīng)過適當(dāng)?shù)倪^程（如分解、化合）使其沉積于基材表面的方法被稱為化學(xué)氣相沉積（CVD），而將鍍膜材料直接冷凝至基材表面成膜則稱為物理氣相沉積（PVD），其中PVD根據(jù)其不同的方法又可細(xì)分為蒸發(fā)、離子沉積、離子濺射、磁控濺射、分子束外延等。
另一方面PVD鍍膜加工的原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，使靶材蒸發(fā)成為反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上的，物理工藝,綠色健康，質(zhì)最穩(wěn)定。因而在真空鍍膜機中經(jīng)常使用到的熱式氣體質(zhì)量流量控制器主要是用來控制氣體的進(jìn)氣量，把氣體流量準(zhǔn)確的輸入到真空腔室內(nèi)。氣體質(zhì)量流量控制器主要是用于控制微小流量的氣體，采用全新的制作工藝，是在20℃，1個大氣壓條件下標(biāo)定的，主要是指氣體在1分鐘的體積流量單位。為監(jiān)測熱式氣體質(zhì)量流量控制器流量變化情況工采網(wǎng)推薦使用液體流量傳感器 液體計量用 - PLF2000系列。
PLF2000系列液體流量傳感器，以代替機械渦輪流量傳感器。以MEMS熱流量芯片為核心，PLF2000擁有更高的精度和重復(fù)性，即使在流量脈動的情況下也能提供線性數(shù)字輸出。由于沒有活動部件，PLF2000不會卡住，也不會發(fā)生機械故障。清潔時無需拆卸。此外，由于其流道中不會引入障礙物（即渦輪），因此具有zui小的流阻，使液體能夠通過重力、鍋爐或低功率泵來循環(huán)。
得益于精密加工的創(chuàng)新，PLF2000采用第三代熱流量芯片。傳感器芯片采用 一對熱電堆來檢測由質(zhì)量流量引起的溫度梯度變化，提供了極好的信噪比和重復(fù)性。“固態(tài)”隔熱結(jié)構(gòu)消除了在競爭技術(shù)中使用表面空腔或易碎膜的需要。傳感器芯片，加上其碳化硅保護(hù)膜，能夠直接接觸液體，允許zui高水平的靈敏度和zui低成本的包裝。
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